多功能高分辨場發射掃描電鏡產品介紹
多功能高分辨場發射掃描電鏡 Apreo 2 SEM產品介紹：
多功能高分辨場發射掃描電鏡Apreo SEM特點：
優異的空間分辨率及襯度
高分辨率——對于大多數樣品都能達到納米或亞納米級別的空間分辨率。采用鏡筒內同步成像、信號過濾、復合透鏡等技術，幫助提升性能，達到最佳的分辨率。
廣泛的樣品適用性
對于多種樣品類型都有極佳的樣品靈活性，包括絕緣體、敏感材料、磁性材料等等。這樣的靈活性幫助用戶獲取感興趣樣品的更多的數據。
利用ColorSEM技術實時獲取定量能譜數據
只需指尖輕輕點擊就可以獲取元素信息，實現實時定量面分布，帶來前所未有的體驗與易用性。
快速簡便的樣品裝載過程
標配的樣品臺可以一次性容納多個樣品，抽真空過程控制到最短時間，保證進樣過程不浪費時間，更加便利地裝載樣品。同時配備自動插拔的壓差光闌（PLA）可以實現高真空與低真空模式之間在毋須開樣品倉的條件下一鍵切換。
高度自動化
高度自動化技術包含FLASH技術（用于自動圖像微調）、撤銷、用戶教程、圖像傾斜與拼接。
大工作距離成像
市場上唯一的在大工作距離（10mm）下仍然保持高空間分辨率（1nm)性能和優異的圖像質量的掃描電鏡，即使對于新手用戶，也極易上手操作。
多功能高分辨場發射掃描電鏡技術參數
多功能高分辨場發射掃描電鏡Apreo 2 SEM規格：
分辨率
30kV下0.7nm(STEM)
15kV下0.5nm(樣品臺減速）
1kV下0.9nm
1kV下0.8nm(樣品臺減速）
1kV下1.0nm（工作距離10mm，樣品臺減速）
500V下0.8nm(樣品臺減速）
200V下1.2nm(樣品臺減速）
30kV下0.7nm(STEM)
15kV下0.9nm(樣品臺減速）
1kV下1.2nm
1kV下1.0nm(樣品臺減速）
500V下1.2nm(樣品臺減速）
標配探測器
ETD、T1、T2、T3、IR-CCD、Nav-Cam+
PivotBeam
選區電子通道襯度模式（也稱為"搖擺光束"模式）。
選配探測器
DBS、LVD、DBS-GAD、STEM 3+、RGB-CLD、EDS、EBSD、WDS、拉曼光譜、EBIC 等
ColorSEM技術（選配）
基于能譜儀（EDS)實時定量數據對掃描電鏡圖像進行著色。可提供的數據包含點分析、線掃描、面掃描、譜圖結果及可靠的Noran定量結果
著陸能量范圍
20 eV – 30 keV
樣品臺偏壓（樣品臺減速）
-4000V~+600V
低真空模式
選配：樣品倉氣壓范圍10-500Pa
樣品臺
五軸電動馬達臺，XY軸行程范圍110x110mm2，傾斜范圍-15°~+90°
最大樣品重量：5kg(不傾斜）
最大束流
50 nA（選配 400 nA）
標準樣品臺
一款多功能樣品臺，可以容納18個標準釘臺（φ12mm),有三個預傾斜樁，截面樣品臺和兩個STEM載位
樣品倉
340mm內寬，12個端口，最多同時安裝三個EDS（兩個互為180°），EDS、EBSD共面安裝并與樣品臺的傾轉軸正交
