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掃描電子顯微鏡平臺

模塊化顯微鏡平臺，掃描電子顯微鏡平臺，顯微鏡配件

型號：EVO 系列

品牌：蔡司Zeiss

產地：德國

遵循標準:

簡介:

創誠致佳為您提供掃描電鏡、臺式電子掃描顯微鏡、分析型掃描電鏡、臨界點干燥儀、高真空鍍膜機、超薄切片機、倒置式工業顯微鏡等產品介紹及銷售。本{content.title}的特點：

掃描電子顯微鏡平臺產品介紹

產品描述:

EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起，同時能夠吸引經驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學，材料科學，或例行的工業質量保證和失效分析領域，憑借廣泛的可選配置， EVO 都可以根據您的要求量身定制。

產品特點:

a) 顯微鏡中心或工業質量保證實驗室的多功能解決方案

b) 不同的真空室大小和可滿足所有應用要求的載物臺選項-甚至是大型工業零部件樣品

c) 使用LaB6燈絲，能夠得到優異的圖像質量

d) 對不導電和無導電涂層的樣品的成像和分析性能出色

e) 可以配置多種分析探測器用于滿足各種顯微分析應用的需求

便捷的可用性

SmartSEM Touch可以通過使用您的指尖與其進行交互式工作流程控制。它簡單易學，大大減少了培訓所付出的努力和成本，甚至新用戶在幾分鐘內也能夠捕捉令人驚嘆的圖像。此用戶界面還支持需要自動化工作流程以執行可重復檢查任務的工業操作員。

優異的圖像質量

EVO 擅長于對未經處理和沒有導電涂層的樣品獲取高質量的數據。EVO 還允許樣品保留其原始狀態，維持含水和重污染樣品的數據質量。此外當成像和微量分析面臨挑戰時，選用LaB6燈絲則能夠給予更好的分辨率、對比度和信噪比。

EVO 能夠與其它設備相關聯

EVO可以作為半自動、多模式工作流程的一部分，通過重新定位感興趣區域，并以多種方式收集數據，形成信息的完整性。將光學和電子顯微鏡圖像合并起來進行材料表征或零件檢驗，或者將 EVO 與蔡司光學顯微鏡相關聯，進行關聯顆粒度分析。

適合更多用戶操作,對于經驗豐富的以及新手用戶操作都很方便

在實際的實驗室環境中，SEM 的操作通常是顯微鏡專家的專屬領域。但是對于非專家級用戶來說，操作SEM就變得具有挑戰，比如學生、受訓者或質量工程師，他們往往也需要從 SEM獲取數據。 EVO 則同時考慮了這兩類用戶的需求，用戶界面選項既能滿足有經驗的顯微鏡專家也能滿足非專業用戶的操作需要。

SmartSEM: 為有經驗用戶使用的控制界面, 專家用戶可以獲取以及設定高級的成像參數和分析功能。

SmartSEM Touch: 是一款在觸摸屏電腦上運行的簡化圖形用戶界面, 新手用戶可以使用預定義的工作流程和常用的一些參數-非常適合初學者。

智能導航與成像,大大提高樣品的測試效率，以及更多的數據產出.

蔡司導航相機

相機可以安裝在倉室前方，以監測樣品與背散射探測器以及物鏡底端之間的相對位置(倉室相機)；或安裝在真空室倉門上方 (導航相機)，利用俯視圖查看樣品臺上樣品的擺放位置。此視圖可用于設置從光學顯微鏡圖像中識別出的預定義位置，并在整個樣品測試過程中輕松導航。

自動化智能成像

EVO實現了對樣品批量自動、無人值守的圖像采集。蔡司自動化智能成像非常適合例行檢測。它使用戶能夠自定義邊界區域，自動生成所需的視圖或放大倍數確定的感興趣區域，并開始自動獲取圖像。自動化智能成像將大大提高樣品的測試效率，以及更多的數據產出。

將您的研究提升一個層次

使用六硼化鑭電子發射器能夠獲得更好的圖像

六硼化鑭陰極相較于傳統的鎢發夾燈絲所發射的電子能夠保證您額外所需要的圖像質量。這種優勢體現在以下兩個方面:

1. 在相等電子探針尺寸 (即分辨率) 下，有更多探針電流可供使用，從而使圖像導航和優化更容易

2. 在相等的探針電流 (信噪比) 下，光斑直徑要小得多，從而提高了圖像分辨率

低加速電壓下高放大倍率的催化劑粒子 (左: 使用鎢燈絲，右: 使用LaB6燈絲)
當在具有挑戰性的成像條件下，使用LaB6燈絲的用戶將有高達10倍的光束亮度，從而提高了圖像分辨率和對比度。

EVO 能夠與其它設備相關聯

工作流程自動化和關聯顯微鏡的好處

由于蔡司是各種類型顯微鏡和計量系統的優秀供應商，所以您還可以將EVO 與蔡司其它解決方案相結合，使其功能能夠發揮得更好。

通過使用Shuttle & Find（蔡司關聯顯微鏡的軟硬件部分），您可以在（數碼）光學顯微鏡和 EVO 之間建立一個高效的多模式聯用的工作流程。將光學顯微鏡獨特的光學對比方法與同樣獨特的掃描電鏡成像和分析方法相結合，獲得互補的數據，從而更清楚地去了解樣品的材料、質量或失效機理。

EVO Element EDS能譜整體解決方案

EVO可以配置集成的 EDS 系統， EVO Element。通過只使用一臺電腦來控制 EDS 和 SEM，從而提高了可用性。同時通過為顯微鏡和 EDS 控制提供專用的用戶界面，可以實現并行控制。

EVO Element EDS 解決方案是集成的選擇，由于在售后服務支持方面的整合，所以它更具有價格優勢。

掃描電子顯微鏡平臺技術參數

型號			EVO 10		EVO 15		EVO 25
樣品室規格			310 mm220mm （直徑高度）		365 mm* 275 mm （直徑*高度）		420 mm* 330 mm （直徑*高度）
電動載物臺行程XYZ	載物臺可通過鼠標或可選的操縱桿和控制板調節		80 x 100 x 35 mm		125 x 125 x 50 mm		130 x 130 x 50 (或 80) mm
最大樣品高度			100 mm		145 mm		210 mm
最大樣品直徑			230 mm		250 mm		300 mm
未來可升級途徑	電子束襯管、擴展壓力、水蒸氣可變壓力和氣體擴展壓力
圖像處理	32,000 × 24,000 像素；通過積分平均值法采集信號（掃描速度 2 或以上）
系統控制	通過鼠標和鍵盤操作的 SmartSEM(3) 圖形用戶界面
	通過 23" 觸摸屏、鼠標和可選硬件控制面板操作的 SmartSEM Touch(2) 圖形用戶界面
	配有旋轉控制功能的硬件控制面板，用以在成像期間增強手動反饋和實現更直觀的控制
	易于使用的功能 – 自動飽和度、自動對齊、樣品選擇和自動成像
	Windows? 10 多國語言版
實用需求	100–240 V，50 或 60 Hz 單相，無需水冷
描述		選擇 EVO 10（可選配BSD和EDS）是您想以一個非常實惠的價格購買掃描電子顯微鏡的切入點。即使這個EVO真空室很小，它也不同于臺式電鏡。您現在在 EVO 的投資保證了您已經為將來需要更多空間和端口的應用做好了準備。		EVO 15 充分展示了 EVO 家族的靈活性概念，并擅長于分析應用。選擇 EVO 15 更大的真空室，并增加對不導電樣品或零件的成像和分析的可變壓力模式，你將有一個多功能多用途的顯微鏡設備或者工業質量保證實驗室的解決方案。		EVO25 是工業的主力解決方案，它有足夠的空間以容納甚至更大的部件和組件。可選的 80 mm Z 軸行程載物臺可進一步擴展 EVO 25的功能，它可以處理重量高達2公斤的樣品甚至傾斜。此外，大的真空室將能夠容納多個分析檢測器以滿足苛刻的微量分析應用需求。
高真空模式 (HV) 導電樣品質量的成像與分析
可變壓力模式 (VP) 不導電且不噴涂導電層樣品的高質量成像和分析
擴展壓力模式 (EP) 含水或被污染的樣品在其自然狀態下成像

掃描電子顯微鏡平臺標準配置

掃描電子顯微鏡平臺可選配件

掃描電子顯微鏡平臺相關視頻

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掃描電子顯微鏡平臺資料下載

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